Fuentes de alimentación para máquina de recubrimiento al vacío
Esta fuente de alimentación de media frecuencia ofrece un alto índice de deposición, gran capacidad de pulverización catódica y uniformidad de deposición. Si se especializa en el recubrimiento al vacío de vidrio arquitectónico o piezas metálicas de gran tamaño, le recomendamos el uso de una fuente de alimentación MF.
Nuestra fuente de alimentación DC es perfecta para el proceso de deposición por arco catódico que utiliza uno o dos cátodos. Si el substrato es conductor, puede aplicarle potencia de corriente continua.
La fuente de arco catódico está especialmente diseñada para llevar a cabo la evaporización por arco y sirve para suministrar la potencia necesaria para evaporizar el cátodo a un estado de plasma que, posteriormente, se deposita en el substrato. Los iones libres llegan a la superficie del substrato con un alto nivel energético y forman una unión mecánica muy fuerte con el substrato.
La fuente de alimentación de corriente de polarización es una de las utilizadas en los últimos años. Aplica una corriente de polarización en el substrato, lo que facilita los procesos de limpieza, grabado en seco y deposición de película. La fuente de alimentación de corriente de polarización puede aplicarse también en diferentes materiales de blanco durante el proceso de recubrimiento al vacío.
La fuente de alimentación pulsada es perfecta para el suministro de tensión al blanco, lo que incrementa la ionización del material de blanco y garantiza su deposición.
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