Máquina de recubrimiento al vacío - Pulverización catódica por magnetrón de frecuencia media
La pulverización catódica por magnetrón de frecuencia media es un proceso de deposición física de vapor que combina las tecnologías de potencia pulsada, deposición por pulverización catódica por magnetrón y evaporización por arco. La tecnología PVD ofrece un alto rendimiento de recubrimiento y es perfecta para aplicar películas de múltiples capas de metales y compuestos metálicos sobre la superficie de diferentes piezas y herramientas metálicas y no metálicas.
Contamos con un equipo de técnicos con una larga trayectoria en la investigación y desarrollo de procesos de vacío que utilizan fuentes de arco catódico para suministrar iones y un campo magnético para mantener el plasma en un área cerca del blanco pero sin tocarlo. El sistema computerizado ofrece un control automático del sistema. La película resultante del recubrimiento es densa, se adhiere firmemente en el substrato y tiene un grosor uniforme.
Aplicaciones de la máquina de revestimiento al vacío
Nuestra máquina de recubrimiento al vacío se utiliza principalmente para aplicar una película fina de metales, compuestos metálicos y otros materiales sobre relojes, carcasas de teléfonos móviles, piezas metálicas, artículos de baño y cocina, herramientas resistentes al desgaste, moldes y troqueles.
Material para depositar
Esta máquina de recubrimiento al vacío es perfecta ara aplicar películas de Tin, TiCN, CrN, TiALN, TiCrN, ZrN o TiNC sobre la superficie del substrato.
Colores de revestimiento
Este equipo de revestimiento al vacío ofrece diferentes colores, como el negro, arco iris (5 colores) y oro rosa.
Características de la metalizadora por vacío
1. La tecnología de pulverización catódica utiliza un campo magnético que se extiende desde el blanco hasta cerca de la superficie del substrato. Los átomos están activos y se pulverizan sobre el substrato gracias a una fuerza magnética. Con esta máquina de recubrimiento al vacío, podrá conseguir un alto grado de ionización de blanco y un acabado superficial excelente.
2. La deposición por arco catódico genera un plasma estable con el uso de cátodos optimizados que funcionan mediante una corriente eléctrica de 30A. La capa de recubrimiento se adhiere al substrato gracias al proceso de difusión atómica.
| Modelo | ||||
| Tamaño de la cámara de vacío | ф900×1000 | ф1100×1200 | ф1250×1100 | ф1350×1100 |
| Velocidad de vacío | 1×105 Pa~3×10-3 Pa≤20min | |||
| Nivel máximo de vacío | ≤1×10-3 Pa | |||
| Equipos auxiliares | 2x-15/2x-70/ZJP-300/KT-600 Opciones Bomba molecular F-400/3600 | 2x-15/2x-70/ZJP-300/KT-630 Opciones Bomba molecular F-400/3600 | 2x-15/2x-70/ZJP-300/KT-630 Opciones Bomba molecular F-400/3600 | 2x-15/2x-70/ZJP-300/KT-630 Opciones Bomba molecular F-400/3600 |
| Transmisión | Engranaje planetario (cantidad de ejes: 8-16, de acuerdo con los requisitos de los clientes) | |||
| Método de calentamiento | Tubos de calentamiento montados en el lateral de la cámara de vacío | |||
| Bombardeo iónico | Tensión de pulso: 0-1000V (disponible con un convertidor de voltaje) | |||
| Suministro de gas | La válvula de control de brillo garantiza un suministro continuo de gas hacia la cámara de vacío. | |||
| Cantidad de arcos catódicos | 6 arcos | 6-8 arcos | 8-10 arcos | 8-12 arcos |
| Blancos controlados magnéticamente | 1-2 (Disponemos de blancos planos o cilíndricos.) | 2-4 (Disponemos de blancos planos o cilíndricos.) | 2-8 (Disponemos de blancos planos o cilíndricos.) | 2-8 (Disponemos de blancos planos o cilíndricos.) |
| Método de trabajo | PLC semiautomático o PC PLC automático | |||
| Ambiente gaseoso | Ar , N2, O2, C2H2 | |||
| Potencia total | 40KW | 45-60KW | 60-80KW | 70-90KW |
| Presión del aire comprimido | 0.4~0.8MPa | |||
| Sistema de refrigeración por agua | Presión del agua/temperatura: ≤25 ℃ /≥0.25MPa (Disponible) | |||
Muestras de recubrimiento al vacío
